光刻法的极限工艺,就在12纳米附近,毕📅竟光刻要靠深🙁🇙紫外光和蚀刻,这是紫外光的📊🙇物理性质决定的。

    而纺织法的极限,取决于纳👡🊜👈米线的横截直径,理论上单原子的纳米线🋂🖢🔑,横截直径在0.5纳米🇼左右。

    不过黄修远明白,0.5纳米的芯片工艺,现阶段基本不可能实现,单单是一🗻🗻个量子隧穿效应,就足以🉝🈗⚁让芯片报废。

    为什么人类要追求更加小的芯片工艺?

    答案是能耗。

    更加精细的晶体管,可以有效🖠📿☿的降⚇🏔低芯片🐔的能耗。

    如果单纯的追求运算力的提升,其实可以采用超算的刀片服务器搭建方式,🏸不断增加芯片的数量。

    在商业应用上,运🚤算力虽然👡🊜👈是一个大指标,但是真正的核心因素,是单位运算力的能🗍耗,即我们常说的能效比。

    假如,🛾有甲乙两款芯片,其浮点运算力都是每秒10亿次,甲芯片采用28纳米工艺🗍,而乙芯片采用22纳米工艺,两者的单位能耗是,🅕🆞通常是甲高于乙。

    或许个人用户感觉不明显,但是那些互联网大厂,一年要付几亿乃至几十亿电费,就🗍不得不考虑能耗问题了。

    这就是为什么,璃龙1诞生后,各大👽🎘👛互联网公司不得不😏🀛采购的☼🄲🁠原因之一,其中就有能耗的考虑。

    黄修远看着眼前的芯片纺织机,12👽🎘👛纳米工艺虽然可以生产芯片,但是速度却下降得厉害,平均每秒只能加工两🃻三千个晶体管🏀🖻。

    比起速度惊人的缁衣—1、缁衣☎♷🍄—2,🉫🊏🏘缁衣—4的速度明显太低了。

    “修远,我打算将第二半导体实验室的立体📅工🀝♜🉓艺引入12纳米工艺上,你怎么看?”陆📊🙇学东提议道。

    放下手上的圆珠笔,黄修🉄远思考了一会:“第二半导体实验室的🔙🁄立体工艺,应该没有成熟吧?”

    “是的,散热是一个大问题。”陆学👽🎘👛东无奈的摊摊手。

    纺织法在立体芯片上,具备天然的优势,但是立体的多层芯⛐片,并不是随随便便🆜可以叠加的。

    本来芯片在工作过程中,就发热非常严重,一旦采用多层叠加,那芯🋂🖢🔑片的工作时,产生的热量将更🐽🅔🆑加多。

    这种工作热量,对于表面上下两☎♷🍄层和边缘,还影响不大,但是中间的那些芯片层,☓⚢📅热量会不断积累,导致芯片使用寿命迅速下降,甚至会直接♬烧坏芯片。

    目前的16纳🁽🋏😖米工艺,可以👡🊜👈叠🖠📿☿加5层芯片,超过散热就是一个问题。

    而工作电压更加低🚤,晶体管更加小的12纳米工艺,极限应该在8~9🚗层。

    为什么要发展立体🚤芯片,而不是加大芯片🐔面积🀝♜🉓,主要原因是立体芯片,有平面芯片没有的优势,那就是占据的空间小,本身还可以多布置一些线脚。

    黄修远知道未来的趋势,立体🖠📿☿芯片⚇🏔是一个大趋势,要解决芯片的散热🋂🖢🔑问题,只能从材料上下手。